智通财经APP讯，普达特科技(00650)发布公告，该公司按计划展开CVD(化学气相堆积)设备事务，开始向该事务投进人民币1.4亿元。按计划，CVD产品的规划包含用于制作12寸晶片的多种先进热CVD设备，该公司预期该等CVD产品将于2024年进入商业出产阶段。
热CVD设备应用于半导体设备制作业薄膜堆积进程中，在该进程选用的产品中，发挥最要害的效果。依据商场研究机构材料，薄膜堆积设备占半导体设备总商场份额的18%，于2021年的全球规划逾170亿美元。跟着芯片技能不断进步及芯片结构复杂化，薄膜堆积设备商场于2017年至2020年的复合年增长率达11.2%，预期将保持增长势头。作为最常用的薄膜堆积设备，CVD设备占薄膜堆积设备总商场份额的66%(即半导体设备总商场份额约10%)，于2021年的全球商场规划逾110亿美元。
依据商场研究机构材料，CVD设备于2020年的国产化率低;一起全球CVD设备商场的准入门槛高，具有高度集中性，前三大商场参与者分占全球70%商场份额。
综上，该公司以为CVD设备事务将为国产代替供给强壮推动力，一起具有宽广的商场空间。