等离子有用成分包括：离子、电子器件、活性基团、核素(亚稳)、光子等。低温等离子处理设备是依据这些活性成分对样品进行外表处理，以完成清洁。同固体、液体、汽体相同，等离子是化学物质的一种状况，也被称为物质的第四态。给气体满足的能量，使它离化成等离子态。等离子的“活性”成分包括：离子、电子器件、活性基团、核素(亚稳态)、光子等。低温等离子处理设备依据这些活性成分的性质来处理样品外表，然后到达清洁、改性的意图。
低温等离子处理设备的原理首要依托等离子中活性粒子的活化效果来去除物体外表的污渍。关于反响原理等离子清洗往往包括下列环节：无机物气体被激发为等离子；气质联用化学物质吸附在固体外表；吸附该基团与固体外表的分子反响生成产品分子；产品分子剖析构成气质联用；产品分子剖析构成气质联用；反响残渣与外表别离。回来搜狐，检查更多